设备简介
该烘箱由深圳市和记AG平台娱乐官网机电科技有限公司为客户精心设计的HMDS高真空烘箱，主要应用于半导体烘烤中HMDS加工反应。HMDS真空烘箱是半导体制造中用于光刻工艺前处理的专用设备。主要功能是通过六甲基二硅氮烷(HMDS)处理硅片表面，以达到以下效果。

● 改变表面性质：硅片表面是亲水的，而大多数光刻胶是疏水的，这会导致黏合不良。HMDS作为偶联剂，能在硅片表面反应生成疏水的硅氧烷化合物，使表面由亲水变为疏水，从而与光刻胶良好结合。
● 解决工艺难题：良好的附着力能有效防止光刻显影时出现浮胶、漂条（图形变形或脱落），以及湿法刻蚀中的侧向腐蚀等问题，大大提高光刻图形转移的可靠性和精度。
● 提升效率与节约成本：相比手工涂布，真空气相沉积具有重复性好、药液利用率高（节省HMDS）、工艺环保等显著优点通过优化工艺参数（如温度、真空度、时间），还能在保证附着力的同时，适当降低光刻胶的接触角，减少光刻胶的用量，从而节约生产成本。

工作原理与流程
HMDS真空烘箱通过抽真空、加热、充氮气、注入HMDS等一系列自动化操作，在硅片表面实现均匀的HMDS涂层。工作流程通过程序化控制（通常由PLC+触摸屏实现），精确控制每个阶段的温度、压力、时间等参数，确保了处理效果的高度一致性和可靠性。多余的HMDS蒸汽（尾气）会由真空泵抽出，需排放到专用的废气收集管道中进行处理。

技术指标